颌平面（主要指下颌平面）的定义
- 核心概念： 下颌平面是代表下颌下缘（下颌骨下缘） 的一个平面。
- 解剖基础： 它通常是通过连接或代表下颌骨下缘最突出的两个点（或其切线）来定义的。
- 头影测量中的意义： 下颌平面是头影测量分析中最常用、最重要的参考平面之一，它作为基准，用于评估牙齿、颌骨、颅底以及面部软组织在垂直向和前后向的位置关系，它是计算许多关键角度（如下颌平面角、Y轴角、ANB角等）的基础。
下颌平面的确定方法（头影测量法）
在头影测量分析中,下颌平面的确定主要依赖于头颅侧位定位片，关键在于准确定义构成该平面的标志点，以下是几种最常用和公认的定义方法：
最常用和经典的方法：连接颏下点与下颌角点
- 标志点：
- 颏下点： 这是软组织上的标志点，位于下唇颏联合处下方软组织最凹点（即软组织颏部最前点）。
- 下颌角点： 这是骨性标志点，位于下颌骨下缘与下颌支后缘相交的后下角处（即下颌角最凸点）。
- 方法： 在头颅侧位片上，直接连接软组织颏下点 和 骨性下颌角点，这条连线就构成了下颌平面。
- 优点： 定义明确，标志点相对容易识别，应用广泛（如Downs分析法、Steiner分析法等）。
- 缺点： 软组织颏下点受软组织厚度影响，可能不完全反映骨性结构；下颌角点有时因影像清晰度或个体变异而定位困难。
使用下颌下缘的切线
- 方法： 在头颅侧位片上，沿着下颌骨下缘绘制一条最平滑、最代表其轮廓的切线，这条切线就是下颌平面。
- 关键点： 这条切线通常通过或接近颏下点和下颌角点区域，但不一定严格连接这两个点，它更强调下颌下缘的整体形态。
- 优点： 能更好地反映下颌下缘的整体形态，避免了因单个标志点定位不准带来的误差。
- 缺点： 切线的绘制带有一定的主观性，不同操作者之间可能存在差异。
- 应用： 在Tweed分析法中，下颌平面被定义为通过下颌下缘的切线，该切线通常通过或接近下颌角点，并与下颌支后缘相交于一点（称为下颌平面角点）。
其他特定定义（较少用或特定分析法）
- 连接下颌角点与颏前点： 有些分析方法可能使用骨性颏前点（颏部最前点）代替软组织颏下点来连接下颌角点，这完全消除了软组织厚度的影响，但骨性颏前点在侧位片上有时不如软组织颏下点清晰易辨。
- 下颌下缘中点与下颌角点的连线： 理论上可行，但实际应用中较少见。
上颌平面（简要提及）
虽然“颌平面”通常指下颌平面，但有时也会提到上颌平面。
（图片来源网络，侵删）
- 定义： 上颌平面通常代表上颌骨腭平面或前颅底平面。
- 常见定义：
- 腭平面： 连接后鼻棘点 和 翼上颌裂点 的连线，这是最常用的上颌平面定义。
- 前颅底平面： 连接蝶鞍点 和 额鼻点 的连线，常作为颅底参考平面。
- 意义： 上颌平面同样作为重要参考平面，用于评估上颌骨的位置、倾斜度以及上下颌骨之间的垂直向关系（如计算腭平面-下颌平面角）。
颌平面（下颌平面）在正畸诊断中的核心作用
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垂直向关系分析：
- 下颌平面角： 这是评估面部垂直向关系最重要的指标之一，它由前颅底平面与下颌平面相交构成，角度大小反映面部是垂直向过长（高角）、正常还是过短（低角）。
- Y轴角： 由眶耳平面与下颌平面相交构成，反映下颌相对于颅底的旋转方向（顺时针或逆时针）。
- 面高比例： 通过测量下颌平面到特定点（如鼻根、耳点等）的距离，评估面部垂直向比例是否协调。
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前后向关系分析：
- ANB角： 虽然直接反映上下颌骨前后关系，但其测量基准之一就是上颌平面和下颌平面（或其平行线）。
- 评估下颌旋转： 通过分析下颌平面的倾斜度变化，判断下颌骨的生长方向（向前向下旋转或向后向上旋转）。
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牙齿位置评估：
- 计算牙齿相对于下颌平面的高度（如下颌切牙点至下颌平面的距离）。
- 评估牙齿长轴的倾斜度是否与下颌平面协调。
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制定治疗计划：
（图片来源网络，侵删）- 根据下颌平面角的大小和方向,决定是否需要控制垂直向生长（如使用高位头帽、J钩等）。
- 预测治疗后面型的变化,特别是垂直向变化。
- 设计拔牙方案时考虑垂直向因素。
- 颌平面（在正畸语境下通常指下颌平面） 是头影测量分析中代表下颌下缘的核心参考平面。
- 主要确定方法： 在头颅侧位片上，通过连接软组织颏下点与骨性下颌角点（最常用），或沿着下颌下缘绘制最平滑的切线（如Tweed分析法）来定义。
- 核心作用： 作为基准，用于评估面部垂直向关系（如下颌平面角）、下颌旋转方向、上下颌骨关系、牙齿位置等，是正畸诊断、治疗计划制定和效果预测不可或缺的工具。
- 准确性关键： 下颌平面的准确定义和绘制依赖于标志点的精确定位和操作者的一致性，这对保证头影测量分析的可靠性至关重要。
理解颌平面及其确定方法是掌握正畸头影测量分析的基础,不同的正畸分析方法可能采用略有差异的下颌平面定义，但其核心意义和作用是一致的。
（图片来源网络，侵删）
